半導(dǎo)體芯片凈化車(chē)間的環(huán)境和生產(chǎn)要求是怎么樣的
近幾年時(shí)間,隨著半導(dǎo)體制程技術(shù)的飛速發(fā)展,芯片線(xiàn)寬已經(jīng)進(jìn)入納米級(jí),相應(yīng)的產(chǎn)品對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境的要求也越來(lái)越高,因此半導(dǎo)體凈化工程潔凈室內(nèi)系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)對(duì)硅芯片品質(zhì)和通過(guò)率的影響舉足輕重,凈化潔凈室的潔凈等級(jí)也須有一個(gè)公認(rèn)的標(biāo)準(zhǔn),比如以Class10為例,意謂在單位立方英寸的潔凈室空間內(nèi),平均只有粒徑0.5微米以上的粉塵10粒。所以Class后頭數(shù)字越小,潔凈度越佳,當(dāng)然其造價(jià)也越昂貴。
半導(dǎo)體凈化車(chē)間潔凈度等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)及要求半導(dǎo)體特性決定其制造過(guò)程必須有潔凈度要求,環(huán)境中雜質(zhì)對(duì)半導(dǎo)體的特性有著改變或破壞其性能的作用,而雜質(zhì)各式各樣,如金屬離子會(huì)破壞半導(dǎo)體器件的導(dǎo)電性能,塵埃粒子破壞半導(dǎo)體器件的表面結(jié)構(gòu)等,所以在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)什么都須嚴(yán)格控制。那么接下來(lái)貴陽(yáng)凈化車(chē)間公司的小編介紹半導(dǎo)體凈化車(chē)間的環(huán)境和生產(chǎn)要求是怎么樣的。
1、內(nèi)部要保持大于一大氣壓的環(huán)境,以確保粉塵只出不進(jìn)。所以需要大型鼓風(fēng)機(jī),將經(jīng)濾網(wǎng)的空氣源源不絕地打入潔凈室中。
2、為保持溫度與濕度的恒定,大型空調(diào)設(shè)備須搭配于前述之鼓風(fēng)加壓系統(tǒng)中。換言之,鼓風(fēng)機(jī)加壓多久,冷氣空調(diào)也開(kāi)多久。
3、所有氣流方向均由上往下為主,盡量減少突兀之室內(nèi)空間設(shè)計(jì)或機(jī)臺(tái)擺放調(diào)配,使粉塵在潔凈室內(nèi)回旋停滯的機(jī)會(huì)與時(shí)間減至低程度。
4、所有建材均以不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì)為主。
5、人事物進(jìn)出,都須經(jīng)過(guò)空氣吹浴 (air shower) 的程序,將表面粉塵先行去除。
6、人體及衣物的毛屑是一項(xiàng)主要粉塵來(lái)源,為此務(wù)必嚴(yán)格要求進(jìn)出使用人員穿戴無(wú)塵衣,除了眼睛部位外,均需與外界隔絕接觸 (在次微米制程技術(shù)的工廠內(nèi),工作人員幾乎穿戴得像航天員一樣。
7、除了空氣外,水的使用也只能限用去離子水 (DI water, de-ionized water)。一則防止水中粉粒污染晶圓,二則防止水中重金屬離子,如鉀、鈉離子污染金氧半 (MOS) 晶體管結(jié)構(gòu)之帶電載子信道 (carrier channel),影響半導(dǎo)體組件的工作特性。去離子水以電阻率 (resistively) 來(lái)定義好壞,一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格;為此需動(dòng)用多重離子交換樹(shù)脂、RO逆滲透、與UV紫外線(xiàn)殺菌等重重關(guān)卡,才能放行使用。由于去離子水是佳的溶劑與清潔劑,其在半導(dǎo)體工業(yè)之使用量驚人!
8、潔凈室所有用得到的氣源,包括吹干晶圓及機(jī)臺(tái)空壓所需要的,都得使用氮?dú)?(98%),吹干晶圓的氮?dú)馍踔烈?9.8%以上的高純氮!
以上八點(diǎn)說(shuō)明是基本的要求,另還有污水處理、廢氣排放的環(huán)保問(wèn)題,再需要大筆的建造與維護(hù)費(fèi)用,總而言之,半導(dǎo)體生產(chǎn)行業(yè)是高污染行業(yè),要嚴(yán)抓相關(guān)企業(yè)的污染治理,潔凈室的使用在半導(dǎo)體芯片等行業(yè)是不可或缺的!
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